濺射于NiMnCo上的TiO2薄膜的結(jié)構(gòu)與相變
2005-04-29 00:44:03顧廣瑞李哲奎林景波李全軍鄭偉濤趙永年金曾孫
吉林大學(xué)學(xué)報(bào)(理學(xué)版) 2005年4期
顧廣瑞 李哲奎 林景波 李全軍 鄭偉濤 趙永年 金曾孫
摘要：利用射頻磁控濺射方法以純金屬鈦?zhàn)霭胁脑跉逖趸旌蠚怏w中制備了TiO2薄膜。X射線衍射結(jié)果表明，在NiMnCo合金基底上成功地沉積了具有金紅石、金紅石／銳鈦礦和銳鈦礦結(jié)構(gòu)的TiO2薄膜，工作氣壓從0．2Pa變化到2h，TiO2薄膜的結(jié)構(gòu)由金紅石相變到銳鈦礦相。低于600nm時(shí)，厚度對(duì)TiO2薄膜結(jié)構(gòu)沒(méi)有明早影響。
關(guān)鍵詞：TiO2薄膜；XRD光譜；金紅石；銳鈦礦
中圖分類號(hào)：O647．2
文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼：A
文章編號(hào)：1671-5489(2005)04—0517—04
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