嚴(yán)　樂　劉紅忠　丁玉成　盧秉恒

摘要：從理論上建立了壓印光刻工藝中留膜厚度與壓印力的關(guān)系，為壓印預(yù)設(shè)曲線的建立提供了理論依據(jù)?；谝簯B(tài)光敏抗蝕劑在紫外光照射下發(fā)生光固化反應(yīng)這一特性，對固化過程進(jìn)行了詳細(xì)的分析，建立了抗蝕劑的固化深度與紫外光曝光量之間的關(guān)系。在分析了現(xiàn)有壓印工藝存在的問題后，提出了一個(gè)全新的壓印工藝：高保真度固化壓印，即包括特征轉(zhuǎn)移一抗蝕劑減薄一脫?；貜椓︶尫乓槐汗夤袒幻撃５葔河∵^程。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，高保真度固化壓印過程與加載路線能實(shí)現(xiàn)復(fù)雜圖形特征的復(fù)制，從而保證了壓印圖形的保真度，并可保證圖形復(fù)制的一致性及適度留膜厚度，壓印圖形的分辨率可達(dá)100min。

關(guān)鍵詞：壓印光刻；加載；抗蝕劑；高保真度

中圖分類號：TH112；TH113．1文獻(xiàn)標(biāo)識碼：A文章編號：0253—987X(2005)09-0933—04