(1.燕山大學(xué) 機械工程學(xué)院,河北 秦皇島 066004;2.鋼鐵研究總院高溫材料研究所,北京 100081;3.中國第二重型機械集團公司萬航模鍛有限公司,四川 德陽 618000)
鎳基高溫合金具有機械強度高、抗高溫蠕變和抗疲勞裂紋擴展等優(yōu)點,用于制造燃氣輪機、渦輪盤等零部件[1]。隨著航空發(fā)動機的發(fā)展,對材料性能的要求不斷提高,尤其是對旋轉(zhuǎn)部件的使用要求也越來越高[2],所以必須嚴格控制渦輪盤的顯微組織,包括晶粒尺寸和晶界特征等,以期達到特定使用條件下的優(yōu)良性能[3]。鎳基變形高溫合金熱處理后最終顯微組織與前序熱加工工藝密切相關(guān)[4],這就要求在考慮產(chǎn)品成形、組織調(diào)控時,需要對熱變形-熱處理全工序進行綜合定量分析。
變形及固溶處理后[5],將坯料的溫度場、變形場、殘余應(yīng)變場等多個不均勻物理場疊加后,組織往往表現(xiàn)出較大的差異[6],如晶粒尺寸[7]、再結(jié)晶百分數(shù)[8]及晶界特征[9]等。傳統(tǒng)的顯微表征方法很難將整體情況完整呈現(xiàn),尤其是包含大量晶體學(xué)信息的EBSD全域表征。某些典型顯微特征,如整個截面分布的晶粒尺寸、特殊晶界[10]等,經(jīng)常會由于選區(qū)的因素而造成甄別誤差,成為使用過程的重大隱患。
文中通過對GH4698進行等溫壓縮和固溶處理試驗,利用EBSD大面積拼接(LAM)全域表征技術(shù),對熱變形和固溶處理的試樣分別進行表征分析,對比研究變形和固溶處理后的晶粒尺寸及晶界特征分布,探討變形及固溶處理后顯微組織演化和應(yīng)變量之間的定量關(guān)系。
試驗所用GH4698合金化學(xué)成分為(質(zhì)量分數(shù)):14.67%的Cr,1.68%的Nb,1.65%的Mo,1.9%的Al,2.64%的Ti,0.11%的C,余量為Ni。熱變形試驗在Thermecmastor-z熱模擬試驗機上進行,試樣尺寸為Ф8 mm×12 mm,變形溫度為1100 ℃,壓下速度為0.12 mm/s,壓下量為40%。具體試驗步驟為:以10 ℃/s的加熱速度升溫至1100 ℃,保溫60 s;保溫結(jié)束后,按設(shè)定的壓下速度、壓下量進行壓縮;變形完成后以25 ℃/s的速度空冷。
壓縮后的試樣沿過軸線的截面切割成兩部分,其中一部分用于熱變形后顯微組織觀察,另一部分用于固溶處理(1120 ℃×8 h)后顯微組織觀察,過軸線的截面為觀察面。觀察表面經(jīng)過研磨、拋光后,利用配有Oxford Symmetry的EBSD探測器的掃描電鏡Zeiss Sigma 300進行測試,并采用其LAM功能完成整個截面顯微組織的表征,EBSD數(shù)據(jù)在 Oxford HKL Channel 5軟件上處理。
利用Deform軟件對試樣壓縮過程進行模擬,將圓柱形試樣設(shè)置為變形體,使用四面體網(wǎng)格,網(wǎng)格數(shù)量為26 744。上下模具簡化為長方形剛體。考慮上下模具、試樣和環(huán)境的熱交換,其中模具初始溫度為500 ℃,環(huán)境溫度設(shè)置為25 ℃。其他模擬參數(shù)分別為:熱傳導(dǎo)系數(shù)為 13 N/(s·mm·℃),比熱容為738 J/(kg·K),泊松比為0.3,彈性模量為166 MPa,試樣與模具間的摩擦因數(shù)為0.3。
圖1為利用LAM表征技術(shù)獲得的GH4698試樣熱壓縮后過軸線截面IPF圖及有限元模擬應(yīng)變分布云圖。由圖1a可見,熱壓縮后試樣觀察截面不同區(qū)域的晶粒尺寸分布非常不均勻。靠近上下端面位置的晶粒尺寸較大,粗大晶粒出現(xiàn)在此區(qū)域概率較高;“鼓肚”區(qū)晶粒尺寸分布極不均勻;靠近中心區(qū)域主要由尺寸較細小的晶粒組成。經(jīng)統(tǒng)計,整個觀察面最大晶粒尺寸為1230 μm,平均晶粒尺寸為29 μm。
熱壓縮后沿軸線截面的應(yīng)變分布云圖如圖1b所示??梢?,應(yīng)變分布呈現(xiàn)梯度及對稱的分布特征,中心區(qū)域顯示為高應(yīng)變區(qū),最大應(yīng)變值可達1.330,由中心向上下端面及鼓肚區(qū)擴展,應(yīng)變梯度逐漸降低。沿中心軸線選取8個等距點進行定量分析(圖1b中標記的P1—P8),其對應(yīng)各點等效應(yīng)變分別為0.016,0.043,0.077,0.165,0.363,0.571,0.966,1.253。
對比分析圖1a和1b可見,靠近上下端面區(qū)域由于應(yīng)變量較?。ㄒ妶D1b),晶?;颈3衷紶顟B(tài)的等軸晶。“鼓肚”區(qū)域應(yīng)變量較上下端面區(qū)域有所增大,其顯微組織由部分再結(jié)晶晶粒和大量變形晶粒組成。中心區(qū)域應(yīng)變量最大,變形晶粒的數(shù)量明顯減少,細小再結(jié)晶晶粒的數(shù)量增多。
圖1 熱壓縮后過軸線截面IPF圖及應(yīng)變分布云圖Fig.1 IPF map and strain contour of the cross axis section after hot compression
圖2為熱壓縮后不同應(yīng)變對應(yīng)的典型顯微組織。由圖2a可見,在應(yīng)變量為0.016時,熱壓縮后晶?;颈3譄釅嚎s前狀態(tài),呈近似等軸狀,晶界平直,幾乎沒有發(fā)現(xiàn)晶界弓彎和再結(jié)晶晶粒,部分晶粒內(nèi)部有退火孿晶。
當(dāng)應(yīng)變量增大到0.077時,沒有發(fā)現(xiàn)動態(tài)再結(jié)晶晶粒,但可見明顯的晶界弓彎和鋸齒形晶界(如圖2b黑色箭頭所示),這些位置是動態(tài)再結(jié)晶潛在的形核位置[11],鋸齒形晶界的形成被認為是非連續(xù)動態(tài)再結(jié)晶形核的顯著標志[12],這是由晶界兩側(cè)變形不協(xié)調(diào)而產(chǎn)生的位錯密度梯度引起的。
當(dāng)應(yīng)變量為0.165時,再結(jié)晶首先在原始晶界及“三叉”晶界處形核,形成“項鏈狀”結(jié)構(gòu),如圖2c所示。觀察發(fā)現(xiàn)原始變形晶界處大都被單層狀態(tài)的細小再結(jié)晶晶粒所填充,故應(yīng)變量0.165可認為是在此變形參數(shù)下動態(tài)再結(jié)晶開始的臨界應(yīng)變,其結(jié)果同郭淑玲[13]的研究成果基本一致。
當(dāng)應(yīng)變量增大到0.571時,再結(jié)晶晶粒數(shù)量明顯增多,幾乎所有變形晶界處都發(fā)現(xiàn)有再結(jié)晶晶粒,晶粒尺寸顯著細化。與圖2a和2b相比較發(fā)現(xiàn),變形晶粒沿垂直壓縮方向被明顯拉長,如圖2d所示。應(yīng)變量為1.253時,除少量細長變形晶粒外,原始晶?;颈辉俳Y(jié)晶晶粒所消耗,晶粒尺寸更加細化。
圖2 熱壓縮后不同應(yīng)變對應(yīng)的顯微組織Fig.2 Microstructures corresponding to different strains after hot compression
由圖2可知,不同應(yīng)變量下的顯微結(jié)構(gòu)與動態(tài)再結(jié)晶百分數(shù)有很大的相關(guān)性。為了進一步明晰文中所述熱壓縮參數(shù)下應(yīng)變量、晶粒尺寸、動態(tài)再結(jié)晶百分數(shù)的關(guān)系,文中采用CAO Y等[14]描述的方法,利用晶粒取向差擴展(Grain orientation spread,GOS)來區(qū)分再結(jié)晶晶粒和變形晶粒,確定閾值為2o,即GOS值低于2o為再結(jié)晶晶粒,大于2o為變形晶粒。基于該方法對不同應(yīng)變量下的動態(tài)再結(jié)晶百分數(shù)進行了統(tǒng)計。
圖3為不同應(yīng)變量下平均晶粒尺寸和動態(tài)再結(jié)晶百分數(shù)分布,動態(tài)再結(jié)晶百分數(shù)與平均晶粒尺寸具有負相關(guān)性,即隨著應(yīng)變量的增大,動態(tài)再結(jié)晶百分數(shù)增大,而平均晶粒尺寸隨之減小。當(dāng)應(yīng)變量達到動態(tài)再結(jié)晶臨界應(yīng)變時(圖3中箭頭所標識),出現(xiàn)大量細小晶粒,使平均晶粒尺寸明顯下降,從P4點的76 μm迅速下降到37 μm。
隨著應(yīng)變的增加,動態(tài)再結(jié)晶百分數(shù)的增長速率先增大后減小。動態(tài)再結(jié)晶形核必須有足夠的應(yīng)變能來激活[15],在低于臨界應(yīng)變時,晶粒累積應(yīng)變能不足以觸發(fā)再結(jié)晶形核,故在小應(yīng)變下沒有觀察到動態(tài)再結(jié)晶的發(fā)生(如圖2a和2b所示)。
圖3 平均晶粒尺寸及動態(tài)再結(jié)晶百分數(shù)與應(yīng)變關(guān)系曲線Fig.3 A plot of the average grain size and dynamic recrystallization percentage with strain
當(dāng)應(yīng)變量達到臨界應(yīng)變0.165時,細小再結(jié)晶晶粒優(yōu)先在變形晶粒結(jié)晶和“三叉”晶界形核(如圖2c所示)。這是因為晶界阻礙了位錯運動[16],位錯易在晶界處大量聚集,高儲存能的晶界為再結(jié)晶形核提供了有利場所。圖4為應(yīng)變0.077的P3點KAM圖,可見,晶界處累積了非常高的應(yīng)變能,為再結(jié)晶形核提供了可能。
在超過臨界應(yīng)變值后,動態(tài)再結(jié)晶百分數(shù)增長速率明顯變大,主要歸因于隨著應(yīng)變的增加,應(yīng)變能在變形晶粒內(nèi)累積,再結(jié)晶形核位置增多。隨著應(yīng)變量的增大,變形晶粒逐漸被無應(yīng)變的再結(jié)晶晶粒取代,再結(jié)晶潛在形核位置減少,動態(tài)再結(jié)晶百分數(shù)增長速率降低。
圖4 P3 點的KAM圖Fig.4 KAM figure for P3
利用LAM表征技術(shù)獲得的GH4698試樣固溶處理后截面晶粒尺寸分布見圖5。晶粒尺寸變化范圍為4~439 μm,利用不同顏色渲染,藍色最小,紅色最大,如圖5a所示。
經(jīng)統(tǒng)計固溶處理后最大晶粒尺寸為439 μm,平均晶粒尺寸為63 μm,晶粒尺寸分布符合正常晶粒長大規(guī)律,呈對數(shù)正態(tài)分布,如圖5b所示。有個別晶粒的晶粒尺寸超過平均晶粒尺寸的5倍以上(圖5a中紅色的晶粒)。對比圖1b應(yīng)變云圖,發(fā)現(xiàn)這些大的晶粒主要分布在小應(yīng)變至中等應(yīng)變區(qū)域內(nèi),而在中心大應(yīng)變區(qū)域內(nèi),晶粒尺寸分布較均勻。
圖5 固溶后晶粒尺寸分布Fig.5 Grain size distribution after solid solution
固溶后平均晶粒尺寸分布見圖6,固溶后平均晶粒尺寸以臨界應(yīng)變?yōu)榻?,表現(xiàn)為兩種不同長大動力學(xué)現(xiàn)象。
在小于臨界應(yīng)變區(qū)域,由于熱變形后此區(qū)域沒有發(fā)生動態(tài)再結(jié)晶(如圖2a和2b所示),晶粒尺寸大致保持原始狀態(tài)。在固溶處理后,累積在晶內(nèi)的應(yīng)變能被激活發(fā)生靜態(tài)再結(jié)晶;隨著應(yīng)變的增加,累積應(yīng)變能逐漸增大,靜態(tài)再結(jié)晶程度增強,其細化晶粒的效果也更加明顯,所以小于臨界應(yīng)變的區(qū)域固溶處理后晶粒尺寸隨著應(yīng)變量的增加而減小。
不同應(yīng)變量(ε=0.165和ε=0.571)對應(yīng)的GOS分布見圖7。臨界應(yīng)變時,少量應(yīng)變梯度較大的變形晶粒在晶界處產(chǎn)生無應(yīng)變的再結(jié)晶晶粒,此時應(yīng)變能分布非常不均勻(如圖7a所示)。在固溶處理后,儲能的不均勻分布容易誘導(dǎo)晶粒粗化[17]。當(dāng)應(yīng)變量大于臨界應(yīng)變時,隨著應(yīng)變增加,動態(tài)再結(jié)晶百分數(shù)逐漸增大,晶粒細化愈加明顯,應(yīng)變能分布也越均勻(如圖7b所示),固溶處理后表現(xiàn)為正常晶粒長大。
圖6 固溶后晶粒尺寸分布Fig.6 Histogram of grain size distribution after solution heat treatment
圖7 不同應(yīng)變量下GOS分布Fig.7 Grain orientation spread (GOS) figure with different strains
利用LAM表征技術(shù)獲得的GH4698試樣熱壓縮和固溶處理后過軸線截面晶界分布見圖8,其中定義取向差大于15°為大角度晶界(用黑色線表示),小角度晶界為2°~15°(用白色線表示)。使用布蘭登準則(其中θ=15°Σ-1/2)確定重合位置點陣(CSL)邊界的最大允許偏差(EBSD圖中用紅色線表示Σ3)[18]。
熱壓縮后過軸線截面的晶界分布見圖8a,小角度晶界主要分布在動態(tài)再結(jié)晶臨界應(yīng)變區(qū)附近(文中稱為中等應(yīng)變區(qū)),而靠近端面小于臨界應(yīng)變的區(qū)域(文中稱為小應(yīng)變區(qū))則分布較少,中心大于臨界應(yīng)變的區(qū)域(文中稱為大應(yīng)變區(qū))的小角度晶界主要分布在個別被拉長的變形晶粒處。
小角度晶界的形成主要是位錯累積造成晶格畸變引起的。隨著應(yīng)變的增加,晶粒內(nèi)及各相鄰晶粒間為協(xié)調(diào)變形而繞某一特定軸進行旋轉(zhuǎn),從而在晶粒內(nèi)形成取向梯度。
孿晶分布也和應(yīng)變量的大小具有強相關(guān)性。由圖8a可見,在小應(yīng)變區(qū)和大應(yīng)變區(qū),孿晶密度明顯較中等應(yīng)變區(qū)大。經(jīng)統(tǒng)計P3(小應(yīng)變區(qū)),P6(中等應(yīng)變區(qū)),P8(大應(yīng)變區(qū))所在位置的孿晶長度百分比分別為40.7%,10.6%,28.9%。
小應(yīng)變區(qū)孿晶密度最高,主要因為在小應(yīng)變區(qū)由于應(yīng)變量較小,其晶粒取向還近似保持原始退火狀態(tài),其高密度的孿晶是壓縮前的原始退火孿晶[19-20]。隨著應(yīng)變量的增大,晶粒間通過協(xié)調(diào)變形使原始孿晶取向逐漸變?yōu)殡S機晶界,故在中等應(yīng)變量下孿晶密度迅速降低。大應(yīng)變區(qū)動態(tài)再結(jié)晶充分進行,再結(jié)晶晶粒的長大伴隨著晶界遷移,在此過程中與相鄰晶粒發(fā)生碰撞,進而發(fā)生“生長事故”,在再結(jié)晶晶界處產(chǎn)生大量孿晶[21-22]。
固溶處理后過軸線截面的晶界分布見圖8b,可見,固溶處理后孿晶分布較均勻。對比熱變形后晶界分布(見圖8a)可以發(fā)現(xiàn),固溶處理后中等應(yīng)變區(qū)也出現(xiàn)了大量孿晶。這主要是由于靜態(tài)再結(jié)晶過程中,晶界遷移而產(chǎn)生大量退火孿晶[23-24]。固溶處理后截面幾乎全部轉(zhuǎn)化為大角度晶界,表明固溶處理后基本完全轉(zhuǎn)變?yōu)樵俳Y(jié)晶晶粒[25]。
圖8 熱變形和固溶處理后過軸線截面晶界分布Fig.8 Grain boundary distribution maps of the cross axis section after hot compression and solution heat treatment
研究了GH4698標準熱模擬試樣在變形溫度為1100 ℃,壓下速度為0.12 mm/s,壓下量為40%條件下等溫壓縮后,又經(jīng)1120 ℃/8 h+水淬固溶熱處理后,過中心軸線截面的整個視場內(nèi)不同應(yīng)變對晶粒演化的影響,主要研究成果如下。
1)利用EBSD大面積拼接技術(shù)對熱變形和固溶處理后過試樣中心軸線截面的顯微組織進行全域表征。靠近上下端面位置的晶粒尺寸較大,粗大晶粒出現(xiàn)在此區(qū)域;“鼓肚”區(qū)晶粒尺寸分布極不均勻;靠近中心區(qū)域主要由尺寸較細小的晶粒組成。
2)不同應(yīng)變量下的顯微組織與動態(tài)再結(jié)晶百分數(shù)有很大的相關(guān)性,動態(tài)再結(jié)晶百分數(shù)與平均晶粒尺寸具有負相關(guān)性。動態(tài)再結(jié)晶開始的臨界應(yīng)變?yōu)?0.165。經(jīng)熱變形和隨后固溶處理,平均晶粒尺寸變化以臨界應(yīng)變?yōu)榻?,表現(xiàn)為兩種不同長大動力學(xué)現(xiàn)象。
3)熱變形后,小角度晶界主要分布在中等應(yīng)變區(qū)和大應(yīng)變區(qū)的個別被拉長的變形晶粒處。孿晶分布也和應(yīng)變量的大小具有一定的相關(guān)性。小應(yīng)變區(qū)和大應(yīng)變區(qū)的孿晶密度明顯較中等應(yīng)變區(qū)大,小應(yīng)變區(qū)孿晶密度最高。固溶處理后孿晶分布較均勻。
由于篇幅有限,只研究了一種熱變形參數(shù)下熱壓縮及固溶處理過程顯微組織演變過程,但必須認識到,不同熱變形參數(shù)和固溶熱處理制度下,晶粒尺寸分布及晶界特征會有所不同,尤其是在γ'相析出溫度范圍進行熱變形及固溶處理時,γ'相的形態(tài)、分布、尺寸對晶粒長大行為及特殊晶界形成機理會產(chǎn)生不可忽視的影響。接下來將繼續(xù)利用LAM技術(shù),研究多種熱變形工藝和固溶熱處理制度下高溫合金顯微組織演化及晶粒長大行為,重點解決多物理場耦合作用下組織遺傳特性,為優(yōu)化高溫合金變形工藝提供參考。