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        二氧化硅包覆對納米多孔金增強熒光特性的調(diào)制

        2019-02-21 09:31:55馬超張玲
        光學儀器 2019年3期

        馬超 張玲

        摘要:為了減弱金屬基底對表面增強熒光的淬滅效應(yīng),設(shè)計了增強效果更好的熒光增強基底。采用化學生長二氧化硅的方法對納米多孔金(NPG)表面進行修飾,避免熒光分子和NPG表面直接接觸引起的淬滅效應(yīng),在siO2@NPG表面分別組裝上羅丹明6G(R6G)和輻射中心波長為700nm的量子點(QD 700)。通過探測分析熒光光譜,可以得出:二氧化硅包覆的基底可以使表面增強熒光得到顯著的增強,并且二氧化硅厚度對熒光強度有調(diào)節(jié)作用;在基底增強量子點熒光信號的同時,量子點和NPG之間還出現(xiàn)非輻射的能量轉(zhuǎn)移現(xiàn)象,二氧化硅的厚度對能量轉(zhuǎn)移同樣有調(diào)節(jié)作用,厚度約為5nm時能量轉(zhuǎn)移現(xiàn)象最顯著。本實驗為基于熒光能量轉(zhuǎn)移的檢測以及設(shè)計更好的熒光增強基底提供了參考。

        關(guān)鍵詞:納米多孔金(NPG);siO2@NPG;量子點;表面增強效應(yīng);熒光共振能量轉(zhuǎn)移

        中圖分類號:0484 文獻標志碼:A

        引言

        納米多孔金(nanoporous gold,NPG)具有獨特的納米孔道結(jié)構(gòu)及大的比表面積,在物理、化學、生物及光學等領(lǐng)域表現(xiàn)出極大的應(yīng)用潛力,已成為納米科學研究的熱點之一。NPG制作方法簡單,可以通過調(diào)節(jié)腐蝕條件靈活地改變其微觀納米結(jié)構(gòu),隨之其局域表面等離子體共振特性也發(fā)生變化,因此NPG被用于表面增強拉曼和表面增強熒光等靈敏檢測方面。當熒光分子與NPG表面直接接觸時,由于內(nèi)部非輻射能量轉(zhuǎn)移的影響,納米金屬結(jié)構(gòu)在增強熒光輻射的同時伴有淬滅效應(yīng)。通過在NPG與熒光分子之間加入一層絕緣或半導體介質(zhì)層,可在抑制淬滅效應(yīng)的同時,對吸附其表面的生色團的熒光信號起到放大作用?,F(xiàn)有文獻中常用的方法是在NPG表面組裝有機配體或包覆絕緣聚合物,如聚二甲基硅氧烷(PDMS)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等,本文采用超薄的二氧化硅層作為絕緣隔層,有效減弱了熒光分子和NPG直接接觸引起的熒光淬滅,同時二氧化硅也大大增加了樣品對生物分子的吸附作用。實驗中利用硅酸四乙酯(TEOS)水解過程,在多孔金表面包覆二氧化硅,并通過控制反應(yīng)時間調(diào)控二氧化硅厚度,進而改變熒光分子與NPG表面之間的間距。通過在NPG和SiO2@NPG薄膜上組裝上羅丹明6G(R6G)染料分子和輻射中心波長為700nm±5nm的量子點(QD700),研究了二氧化硅包覆對多孔金熒光增強特性的影響。

        1實驗過程

        1.1納米多孔金的制備

        NPG的制備采用脫合金法。將厚度約為100nm的金銀合金Ag65Au35(原子百分比)固定在聚合物基底上,置于干燥箱中80℃煺火4 h。煺火完成后將合金薄膜浸入硝酸溶液(體積分數(shù)約為68%)中腐蝕1h,合金中的銀原子與酸發(fā)生反應(yīng)融入硝酸,剩余金原子自主構(gòu)造出尺寸分布均勻、雙聯(lián)通的納米孔狀結(jié)構(gòu),多孔金的孔徑大小可以通過腐蝕時間、環(huán)境溫度、硝酸體積分數(shù)等因素來控制。多孔金薄膜從硝酸中取出后用超純水清洗多遍,并浸泡若干小時以除去殘留的硝酸,取出晾干后置于干燥柜中待下一步使用。

        1.2多孔金薄膜上二氧化硅包覆

        采用化學生長的方法在NPG表面包覆二氧化硅。將制作好的NPG薄膜先浸入濃度為0.1 mol/L的十六烷基三甲基溴化銨(CTAB)溶液中,浸泡1 h后,用超純水清洗幾遍以除去表面殘留的CTAB溶液。將40mL濃度為6mmol/L的CTAB溶液加入到100 mL的燒杯中,再加入20 mL乙醇(99.7%),用磁力攪拌攪勻,同時使混合液溫度保持在35℃左右。隨后向溶液中滴加25ul氨水(25%),將制作好的NPG薄膜插入混合溶液中,使其固定懸浮在溶液中并且完全浸入液面下。攪拌5 min左右,使溶液均勻并且溫度恒定。隨后向混合液中逐滴添加50ul正硅酸乙酯(TEOS)溶液,分5次添加(10ul/次),滴加過程中大力攪拌溶液。溶液添加完成后降低攪拌速度,溫和攪拌以保證混合液均勻,同時采用水浴加熱使溶液溫度穩(wěn)定在35℃左右。反應(yīng)過程中分別在5 h、10 h、15 h、20 h、25 h時各取出一片薄膜,隨著反應(yīng)時間的延長,TEOS在弱堿性環(huán)境下緩慢水解生成二氧化硅,從而使NPG表面的二氧化硅厚度逐漸增加。樣品從反應(yīng)液中取出后,先用乙醇溶液浸泡若干分鐘,除去多孔金孔道及二氧化硅表面吸附的多余的CTAB,然后用去離子水清洗幾遍后晾干并放入干燥柜保持干燥。

        1.3熒光光譜檢測

        采用靜電吸附的方式將熒光分子組裝到SiO2@NPG表面。首先探測沒有組裝熒光分子的NPG和SiO2@NPG本身的熒光光譜作為實驗參照,然后將制備好的NPG及SiO2@NPG樣品置于R6G(10-7mol/L)溶液中,浸泡2h,將R6G分子組裝在樣品上,清洗幾遍晾干后分別檢測相應(yīng)的熒光信號。將制得的NPG及SiO2@NPG分別浸泡在QD700水溶液中,溶液濃度為50 nmol/L,浸泡12 h,使量子點充分組裝在樣品表面,取出后用超純水清洗幾遍,用吸水紙將樣品表面的水除去,保持樣品表面濕潤的條件下檢測熒光光譜。檢測時,采用功率約為1 mW、中心波長為532nm的激光作為激發(fā)光源,用熒光光譜儀進行探測。

        2實驗結(jié)果與討論

        將制作完成的NPG和SiO2@NPG樣品分別用掃描電子顯微鏡(SEM)和透射電子顯微鏡(TEM)進行形貌表征。圖1(a)為金銀合金薄膜去合金腐蝕1 h后得到的NPG樣品的掃描電鏡(SEM)圖,圖中顯示了NPG獨特的雙連續(xù)的納米孔道結(jié)構(gòu),經(jīng)陜速傅里葉變換后得到該多孔金的孔徑約為30nm。圖1(1))為Sio2包覆20 h后得到的Sio2@NPG樣品的TEM圖,此時Sio2厚度約為5nm,且在多孔金表面以及孔道內(nèi)壁的分布相對較均勻。

        利用能譜儀(EDS)探測不同反應(yīng)時間下SiO2@NPG樣品中硅元素和金元素相對含量的變化情況,如圖2(a)所示,隨著反應(yīng)時間的延長硅元素與金元素的質(zhì)量百分比的比值逐漸增加,說明隨著反應(yīng)時間的延長多孔金表面包覆的二氧化硅厚度逐漸增加。隨后利用熒光光譜儀分別檢測NPG和不同厚度二氧化硅殼層的SiO2@NPG樣品本身的激光激發(fā)光譜信號,如圖2(b)所示,二氧化硅的包覆對多孔金本身的激發(fā)光譜信號有一定的影響。

        為了研究包覆二氧化硅后對NPG光學特性的調(diào)制,分別在NPG和SiO2@NPG表面組裝熒光分子R6G(10-7mol/L),所得熒光光譜如圖3(a)所示。圖3(1))為峰值在552nm處的熒光信號的絕對強度隨二氧化硅鍍膜時間的變化趨勢,可以看出二氧化硅的包覆使R6G的熒光信號得到明顯的增強,超薄的二氧化硅作為絕緣隔層對NPG表面增強熒光有顯著的增強作用。在0~1 5 h內(nèi),隨著二氧化硅厚度的增加熒光信號也逐漸增加,在15 h處熒光信號達到最強,與沒有鍍二氧化硅的NPG相比增加了約13倍,15h以后由于二氧化硅厚度過大反而使表面增強熒光減弱,二氧化硅厚度的改變對NPG增強熒光有一定的調(diào)制作用。

        圖4所示為組裝上QD700的QD@NPG及QD@SiO2@NPG系統(tǒng)的熒光光譜信號。如圖4(a)所示,表面沒有二氧化硅的NPG(圖中Oh對應(yīng)的曲線)對量子點的熒光信號幾乎沒有增強作用,NPG本身的激發(fā)光譜信號強度也非常弱。包覆SiO2殼層后量子點的熒光信號(700nm處)得到顯著的增強,同時NPG本身的激發(fā)光譜信號(570 nm)強度與沒有組裝量子點的相比也呈現(xiàn)大幅增強。量子點熒光增強主要源于NPG基底局域表面等離子體共振增強作用引起的表面增強熒光效應(yīng),而NPG的激發(fā)光譜信號增強主要是,處于激發(fā)態(tài)的量子點通過非輻射能量轉(zhuǎn)移的形式將部分能量轉(zhuǎn)移給NPG,增加了NPG表面等離子體激元,從而使本身的激發(fā)光譜增強。

        為了進一步研究二氧化硅厚度對系統(tǒng)能量轉(zhuǎn)移的影響,利用Origin軟件對熒光光譜曲線分別進行高斯曲線分峰擬合,計算出570nm和700 nm兩個峰位處的光譜信號的絕對強度,同時計算出圖2(b)中基底(NPG和SiO2@NPG)的激發(fā)光譜信號強度,計算結(jié)果如表1所示。表1中570 nln和700 n/n兩峰位處分別對應(yīng)QD@SiO2@NPG系統(tǒng)中NPG和量子點光譜信號的絕對強度,565nm表示沒有組裝量子點時SiO2@NPG的激發(fā)光譜強度。計算結(jié)果對應(yīng)的折線圖如圖4(b)所示,對比570nm和565nm兩條折線可以得出,表面組裝量子點后NPG的激發(fā)光譜有明顯的增強,并且隨SiO2厚度的增加呈現(xiàn)出先增加后減弱的趨勢,在20 h(SiO2約5nm)時達到最強,此時相應(yīng)的量子點熒光強度(700nm對應(yīng)折線)卻有所減弱,說明此時能量轉(zhuǎn)移現(xiàn)象最強。SiO2厚度繼續(xù)增加(大于5 nm),NPG的激發(fā)光譜開始逐漸減弱,相應(yīng)的量子點的熒光信號又出現(xiàn)明顯的增強,這是由于二氧化硅的厚度太大阻礙了供體和受體之間的能量轉(zhuǎn)移,能量轉(zhuǎn)移減弱使激發(fā)態(tài)的量子點輻射出的熒光信號強度大大增加。實驗結(jié)果得出NPG表面包覆二氧化硅不僅可以增強量子點熒光信號的強度,而且二氧化硅的厚度對QD@SiO2@NPG系統(tǒng)內(nèi)的能量轉(zhuǎn)移現(xiàn)象也有調(diào)節(jié)作用。

        3結(jié)論

        二氧化硅包覆能有效提高NPG的熒光增強特性,提高NPG對熒光物質(zhì)的檢測靈敏度,且絕緣層的添加能在一定程度上促進量子點與金屬之間的能量轉(zhuǎn)移,為基于熒光能量轉(zhuǎn)移的檢測及設(shè)計更好的熒光增強基底提供了參考。

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