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        TCD132D線陣CCD總劑量效應(yīng)的實驗分析

        2010-12-21 06:25:38王祖軍唐本奇肖志剛黃紹艷劉敏波劉以農(nóng)
        電子器件 2010年1期
        關(guān)鍵詞:電離輻射偏置電荷

        王祖軍 ,張 勇,唐本奇,肖志剛,黃紹艷,劉敏波,陳 偉,劉以農(nóng)

        (1.清華大學(xué)工程物理系粒子技術(shù)與輻射成像教育部重點實驗室, 北京100084;2.西北核技術(shù)研究所, 西安710024)

        電荷耦合器件CCD(charge coupled device)因其體積小、質(zhì)量輕、功耗低、量子效率高、動態(tài)范圍大、壽命長以及機械強度高等優(yōu)良性能,而被廣泛應(yīng)用于航天器對地觀測、遙感、空間科學(xué)探測器等領(lǐng)域。長期工作在空間輻射環(huán)境中的CCD受電離輻照影響后,會產(chǎn)生總劑量效應(yīng)??倓┝啃?yīng)導(dǎo)致CCD暗信號增大、飽和輸出電壓下降、平帶電壓和閾值電壓漂移等現(xiàn)象,從而影響CCD正常工作,嚴重的會導(dǎo)致CCD功能失效。

        國外從20世紀70 年代就對CCD的電離輻射損傷效應(yīng)開展了大量的實驗和理論研究,目前國外應(yīng)用在輻射環(huán)境中的CCD已經(jīng)具有很強的抗電離輻射能力,加固后的CCD抗總劑量能力高達1 000 krad(Si)。國內(nèi)對CCD的輻射效應(yīng)研究開展的較晚,國內(nèi)早期開展了表面溝道CCD的電離輻射效應(yīng)研究[1]和CCD柵氧化層電離輻射加固工藝研究[2]。隨著CCD制造技術(shù)的發(fā)展,目前使用的CCD多為埋溝CCD。國內(nèi)相關(guān)單位,如西北核技術(shù)研究所和中科院新疆理化所相繼開展了 TCD1208P和TCD1209D等商用線陣埋溝CCD總劑量損傷的劑量率效應(yīng)實驗研究[3];中國空間研究院和重慶光電技術(shù)研究所也開展了CCD60Coγ電離輻射效應(yīng)實驗研究[4-5]。

        由于CCD器件結(jié)構(gòu)相對復(fù)雜,輻射敏感參數(shù)較多,不同類型和結(jié)構(gòu)的CCD其抗輻射能力也有差異,已報道的文獻對CCD輻照后敏感參數(shù)的實驗現(xiàn)象分析還不夠全面,對電離輻射效應(yīng)損傷機理研究需要大量的輻照實驗數(shù)據(jù)作為基礎(chǔ)。課題組已經(jīng)報道了線陣CCD總劑量效應(yīng)輻照測試系統(tǒng)設(shè)計[6]、模擬實驗方法[7]和電離輻射損傷機理研究[8]。本文通過對TCD132D線陣CCD60Coγ總劑量效應(yīng)輻照實驗結(jié)果進行分析,得出了CCD分別在不加偏置電壓、加偏置電壓加驅(qū)動信號和加偏置電壓不加驅(qū)動信號三種工作狀態(tài)下,受60Coγ輻照后暗信號電壓和飽和輸出電壓隨總劑量累積的變化規(guī)律,為CCD抗電離輻照加固技術(shù)研究提供理論和實驗技術(shù)支持。

        1 實驗

        CCD總劑量輻照實驗在西北核技術(shù)研究所的60Coγ源上開展,60Coγ射線源的光子能量為 1.25 MeV,源強的不確定度為2.5%,輻照實驗過程中,60Coγ源的輻照劑量率為0.5 rad/s。選用TCD132D CCD作為被輻照器件。輻照時,被輻照器件分別對應(yīng)三種工作狀態(tài):不加偏置電壓、不加驅(qū)動信號;加偏置電壓、不加驅(qū)動信號;加偏置電壓、加驅(qū)動信號。通過輻照板提供給被輻照器件偏置電壓和驅(qū)動信號。輻照后采用離線測試,選取暗信號電壓和飽和輸出電壓作為CCD的輻射敏感參數(shù)測量對象。輻照實驗共進行兩批次,第一批60Coγ輻照選取了3片TCD132D CCD,其中:06#CCD加偏置電壓、不加驅(qū)動信號;07#CCD加偏置電壓、加驅(qū)動信號;08#CCD不加偏置電壓、不加驅(qū)動信號。根據(jù)第一批CCD輻照的實驗測試結(jié)果,開展了第二批60Coγ輻照,選取2片TCD132D CCD,其中:04#和10#CCD均不加偏置電壓、不加驅(qū)動信號。

        TCD132D CCD是一種1024像元的線陣圖像傳感器,內(nèi)置了CCD驅(qū)動電路、嵌位電路、S/H電路和預(yù)放大電路。光敏元與CCD移位寄存器之間通過轉(zhuǎn)移柵隔離。轉(zhuǎn)移脈沖SH控制轉(zhuǎn)移柵的開啟和關(guān)斷,其周期是光積分時間,典型值為740us。內(nèi)置CCD驅(qū)動電路為 CCD提供驅(qū)動工作脈沖信號。TCD132D CCD工作過程如下:在轉(zhuǎn)移柵關(guān)斷期間,轉(zhuǎn)移脈沖SH為低電平,光敏單元處于光積分時間,接受外部光信號,光信號電荷進入MOS電容存儲勢阱中。當轉(zhuǎn)移脈沖SH轉(zhuǎn)為高電平,光信號電荷進入CCD移位寄存器的勢阱中。在驅(qū)動時鐘脈沖的作用下,光信號電荷向信號輸出單元轉(zhuǎn)移,最后經(jīng)CCD輸出放大器檢出。一幀輸出信號由啞元、遮光元和光敏元組成[9]。

        2 實驗結(jié)果與分析

        CCD在既無光注入又無其它方式注入信號的情況下輸出的電壓信號稱為 CCD的暗信號電壓。在測試TCD132D CCD暗信號電壓時,取遮光元輸出電壓與飽和輸出電壓之差。圖1給出了07#CCD加偏置電壓、加驅(qū)動信號輻照,總劑量分別為2.5 krad(Si)和7.5 krad(Si)時的暗信號波形,從圖1中(a)和(b)對比可以看到輻照總劑量增大,遮光元輸出電壓與啞元輸出電壓差增大,即暗信號電壓增大,暗信號從75.4 mV增大到241 mV。圖2給出了04#CCD不加偏置電壓、不加驅(qū)動信號輻照,總劑量分別為6 krad(Si)和12 krad(Si)時的暗信號波形,暗信號從36.5 mV增大到113 mV。從圖1和圖2比較可以看到,不加偏置電壓、不加驅(qū)動信號輻照時,暗信號電壓隨總劑量增大比加偏置電壓、加驅(qū)動信號輻照時相對要小。

        圖1 07#CCD加偏置電壓、加驅(qū)動輻照時的暗信號波形

        圖2 04#CCD不加偏置電壓、不加驅(qū)動輻照時的暗信號波形

        圖3(a)和(b)給出了10#CCD不加偏置電壓、不加驅(qū)動信號輻照,總劑量分別為12和21 krad(Si)時,不加光照時的輸出全幅波形,從圖3(a)中,總劑量為12 krad(Si)時,光敏元沒有飽和;從圖3(b)中,總劑量達到21 krad(Si)時,光敏元已經(jīng)完全飽和。此時,輻照誘發(fā)的暗信號已經(jīng)使CCD像元處于飽和狀態(tài),此時, CCD已經(jīng)失去了光響應(yīng)能力,因而功能失效。

        圖3 10#CCD不加偏置電壓、不加驅(qū)動輻照時一幀信號的全幅波形

        第一批CCD輻照實驗時, 06#和07#加偏置電壓,總劑量達8.5 k rad(Si)時,不加光照, CCD像元就已經(jīng)飽和, CCD勢阱中已經(jīng)充滿輻照誘發(fā)的暗信號電荷,此時, CCD已經(jīng)無法感光成像,這種情況下CCD已經(jīng)功能失效。 08#CCD繼續(xù)增加總劑量到10.5 krad(Si)時,器件仍能正常工作。根據(jù)第一批CCD輻照的實驗測試結(jié)果,第二批輻照時,不斷增加04#和10#CCD在不加偏置電壓狀態(tài)下的輻照總劑量,直到總劑量達到21 krad(Si)時, CCD也功能失效。加偏置電壓時, CCD抗總劑量能力顯著降低,主要是由于CCD的光敏區(qū),轉(zhuǎn)移區(qū)和輸出放大器主要有MOS結(jié)構(gòu)組成,加偏置條件下, MOS器件對電離輻射更敏感。

        圖4 給出了60Coγ輻照總劑量效應(yīng)實驗時,06#、07#、08#、04#和10#TCD132D CCD暗信號電壓隨總劑量的變化曲線圖。在相同條件下,每次隨機測量5次暗信號電壓然后進行數(shù)據(jù)處理。從圖4中可以看到隨總劑量增大,暗信號電壓增大,且加偏置電壓比不加偏置電壓時暗信號電壓增大幅度要大。暗信號增大機理是由于輻射誘發(fā)Si/SiO2之間界面態(tài)陷阱電荷增加,而界面態(tài)陷阱電荷在CCD表面具有很高的熱產(chǎn)生率,它們能與Si體內(nèi)的載流子發(fā)生作用, 導(dǎo)致熱產(chǎn)生電子-空穴對, 從而使暗信號增大。

        圖4 TCD 132D CCD暗信號電壓隨總劑量的變化

        圖5 給出了06#、07#、08#、04#和10#TCD132D CCD飽和輸出電壓隨總劑量的變化曲線圖。從圖5中可以看到隨總劑量增大,飽和輸出電壓減小,且加偏置電壓比不加偏置電壓時飽和輸出電壓減小顯著。 CCD飽和輸出電壓減小的機理是由于輻射損傷導(dǎo)致CCD輸出放大器工作點漂移,從而使飽和輸出電壓下降;由于CCD輸出放大器中的MOSFET在加偏置電壓時對輻射更敏感,所以加偏置電壓時,飽和輸出電壓減小更顯著。飽和輸出電壓減小將使CCD的動態(tài)范圍也減小。

        圖5 TCD 132D CCD飽和輸出電壓隨總劑量的變化

        通過CCD輻照總劑量效應(yīng)實驗的對比,可得出如下結(jié)論:(1)隨總劑量增大, TCD132D CCD暗信號電壓增大,且加偏置電壓比不加偏置電壓時暗信號電壓增大幅度要大;(2)隨總劑量增大, TCD132D CCD飽和輸出電壓減小,且加偏置電壓比不加偏置電壓時飽和輸出電壓減小顯著;(3)TCD132D CCD在加偏置電壓時的抗總劑量能力明顯低于不加偏置電壓輻照。從暗信號電壓和飽和輸出電壓參數(shù)輻照后的退化可以看到,在加偏置工作狀態(tài)下輻照,CCD對輻射更敏感。

        3 小結(jié)

        通過開展TCD132D線陣CCD60Coγ輻照實驗,得出了CCD總劑量效應(yīng)的實驗規(guī)律曲線;分析了TCD132D線陣CCD輻照后暗信號電壓和飽和輸出電壓的變化規(guī)律:隨總劑量增大, TCD132D CCD暗信號電壓增大、飽和輸出電壓減??;TCD132D CCD在加偏置電壓時比不加偏置電壓對輻射損傷更敏感。

        [ 1] 任迪遠,張玲珊, 瞿則濤,等.表面n溝CCD的電離輻射損傷[J].核電子學(xué)與探測技術(shù), 1987, 7(3):139-144.

        [ 2] 李杰,王縉亮,董初亮,等.CCD電離輻射加固工藝研究[ J] .核電子學(xué)與探測技術(shù), 1990, 10(4):193-198.

        [ 3] 李鵬偉,郭旗, 任迪遠, 等.CCD器件總劑量損傷的劑量率效應(yīng)[C] //第十屆全國抗輻射電子學(xué)與電磁脈沖學(xué)術(shù)年會論文集, 2009:178-185.

        [ 4] 于慶奎,唐民,朱恒靜,等.用10 MeV質(zhì)子和鈷60γ射線進行CCD空間輻射效應(yīng)評估[ J] .航天器環(huán)境工程, 2008, 25(4):391-394.

        [ 5] 劉俊剛,李敬紅.電荷耦合器件抗γ總劑量輻射加固[ J] .半導(dǎo)體光電, 1996, 17(1):16-22.

        [ 6] 張勇,唐本奇,肖志剛,等.線陣CCD總劑量輻照效應(yīng)離線測量系統(tǒng)設(shè)計[J] .核電子學(xué)與探測技術(shù), 2004, 24(5):497-494.

        [ 7] 唐本奇,張勇, 肖志剛,等.線陣CCD器件總劑量效應(yīng)模擬試驗研究[C] //固體核徑跡論文集——第八屆全國固體核徑跡學(xué)術(shù)會議論文集, 2004:152-154.

        [ 8] 王祖軍, 唐本奇, 肖志剛, 等.CCD電離輻射損傷機理分析[J].核電子學(xué)與探測技術(shù), 2009, 29(3):565-570.

        [ 9] 日本東芝公司.TCD 132D線陣CCD手冊[ S].1997:1-3.

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